“老板，我們剛研發出pas5500光刻機……上市是不是早了點？”
“一點都不早，光刻機這個行業是要不斷往里面投錢的，只要稍微停下研發腳步，就會被整個市場所淘汰。
研發下一代光刻機，我們要投入成倍的金錢，以半島如今的盈利狀況，想要獨立承擔研發費用，是一件很困難的事情。”
在王磊的預想里，pas5500一旦出世，將迅速占領光刻機市場，三星、臺積電的訂單將源源不斷的涌向半島科技，到時候上市募集個上百億的資金還是輕輕松松的事情。
邱明祥忍不住打斷了王磊的思緒：
“老板，我們現在首要任務是拿到第一筆訂單。”
“是啊，我們首先要邁出第一步才行。”
半島科技如今還是光刻機的新玩家，在整個半導體市場如今還是個無名小子。
讓大半導體商們換合作商是不是一件小事。
他們首先要做的便是推銷自己的產品。
“對行業巨頭們發出邀請函吧，就說我們制造出了最新一代光刻機，邀請他們來參觀。”
“還有那些友商們也發一份邀請函，我打算在展會上正式確立我們的領先地位。”
邱明祥點了點頭，表示立馬會去準備。
這時，拜爾斯悠悠轉醒，他立馬意識到被眾星拱月的是半島的幕后老板王磊。
“王先生，您來啦？”
“拜爾斯你做的不錯，我決定正式升任你為半島科技的技術總顧問，漲薪50%，你的團隊成員的獎賞都由你來定奪。”
拜爾斯被巨大的驚喜所包裹，他作為研發項目的負責人，被挖來時薪水已經是行內最頂尖的水平。
這樣的漲薪幅度立馬令這名洋專家有了為知己者死的想法。
他飄洋過海來到港城，不就是為了多賺點美元。
王磊拍了拍他的肩膀：
“加薪升職只是一個開始，pas5500量產后，我還會在年終發一份巨額獎賞給你們。”
“你們生活上存在什么不習慣的地方都可以跟我當面提。”
拜爾斯急忙搖了搖頭：“我們都對現在的生活很滿意。”
半島科技對技術型人才的待遇很優厚，專家級的工程師每人都會獲得一套小別墅，還有專門負責接送的司機。
雖然知道這是公司收買人心的手段，但不少人都備受感動。
“你們研發出的5500的確很先進，可以適用于70nm到2μm的芯片制造。”
說到這，拜爾斯也非常的自豪，pas5500是現在世界上最先進的刻光機，可以滿足大集成電路的各種需求。
拜爾斯強調道：
“老板，5500的先進不止如此，它還是世界第一部可拆卸組裝的刻光機。”
他親自為王磊展示了部分拆卸組裝的操作。
他們將這臺刻光機分成了十個模塊，每個模塊都可以分開組裝。
這樣一來，無論哪個零件出了問題，換了新的模塊零件便可以繼續工作。
王磊和所有高管都意識到這會是打動半導體商非常重要的一點。
以往刻光機損壞，就意味著一條生產線停工停產，需要廠商派出修理的工程師維修，直到完全修復才可以恢復工作。
半導體商面臨的最大問題往往都是產能，時間對于他們來說就是生命。
一臺可拆卸的刻光機可以解決很多產能問題。
在金錢的刺激下，拜爾斯主動提議道：
“老板，我們目前要解決的便是訂單問題，有了訂單，生產線才能全力運作起來。
我們可以試著找巨頭ibm聊聊，他們曾公開表示誰第一個生產出更精細的光刻設備就會找誰合作。”
這件事邱明祥也是知道的，解釋道：
“ibm在89年率先宣布他們成功在8英寸晶圓上制造芯片，工藝制程將精細到365nm，他們的總裁呼吁光刻機廠商研發精度更高的光刻設備。
并且公開保證，誰第一個造出來，ibm將優先購買他們的光刻機！”
王磊眼睛一亮，他正在為光刻機賣給誰，買主不就這么來了嗎。
“這一次展會，一定要邀請ibm的人來觀摩觀摩，要知道我們的光刻機精度可是提升到了70nm！”
遠遠超過了ibm所要求的365nm。
王磊很期待看到一群老外驚訝錯愕的眼神。
幾人都不由的相識一笑。
“老板，只要拿下ibm，我們的市場占有率可以提高到5%！”
見拜爾斯有點飄的樣子，王磊還是忍不住敲打道：
“拜爾斯，雖然我們目前制造出了遠超同行的光刻設備，但遠遠沒有到可以大意的時候，我們要盡早將光源波長提高到157nm！”
光刻機技術的升級，可以簡單的看作光源波長的升級。
通過用更高級的曝光光源，來支撐技術進步到下一代。
為了追求更高的分辨率，光源波長從最初的365nm，到248nm，再到如今pas5500使用的193nm。
據王磊對光刻機發展進程的了解，想要從248nm進化到193nm并不是最難的一步。
用不了幾年，尼康、佳能、以及美麗國的gca都會相繼走到這一步。
最困難的還是向157nm的技術升級。
所有的大廠商都被卡在這一步上。
誰先邁出這一步，便會奠定一超多強的格局，徹底成為光刻機行業的霸主。
拜爾斯也沒有預料到王磊的野心會如此的大，剛完成了技術升級，又開始琢磨著下一代光刻機。
“你放心，不管研發中遇到多少困難，我都會全力支持你們的研發！”
說這話的時候，王磊卻將思緒飄到了臺積電。
那里有一位龍裔科學家，堪稱半導體“鬼才”一般的存在。
正是他提出了一種較為大膽的理念——浸沒式！
他創造性的提出用水作為曝光介質，光源波長還是用原來的193nm，但通過水的折射，使進入光阻的波長縮小到134nm。
以前的干式法中，曝光介質用的是空氣。
它們的區別在于折射率，193nm光源在空氣中的折射率為1，在水中折射率為1.4。
這也就意味著相同光源條件下，浸沒式光刻機的分辨率可以提高1.4倍。
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